В России появится специальная производственная линия для выпуска чипов
Россия продолжает развивать полупроводниковую отрасль. Некоторое время назад стало известно, что правительство намерено выделить десятки миллиардов рублей на создание центров микроэлектроники, а теперь стало известно о планах по созданию линии фотолитографии для производства чипов.
Линии фотолитографии для изготовления интегральных схем представляют собой комплекс оборудования, который автоматизирует ключевые этапы создания микроэлектронных компонентов. Они необходимы для точного переноса топологии микросхемы на кремниевую подложку, формирования рисунка элементов и обеспечения высокого качества производства.
На создание опытного образца кластерной линии фотолитографии для изготовления интегральных схем на пластинах диаметром 200 мм Минпромторг намерен выделить 2,8 млрд рублей. Согласно тексту тендера, опубликованного в конце ноября, опытный образец линии должен быть разработан к 31 октября 2030 года.
Сама производственная линия будет состоять из нескольких систем — это блок обработки, нанесения фоторезиста и антиотражающего покрытия, блоки проявления фоторезиста. Также в комплекс войдут модуль загрузки и блок термической обработки.
Согласно техническому заданию, отечественная установка должна будет способна ежечасно обрабатывать до 60 пластин, а её срок службы должен составлять, как минимум, 10 лет.
«Проект предполагает разработку не самого литографа, а критически важного кластерного комплекса для всех подготовительных и заключительных операций с фоторезистом, — пояснил Александр Тимошенко, глава ООО «Троичные Технологии». — Такая автоматизированная линия, объединяющая нанесение слоев, термообработку и проявление в единый герметичный контур, предназначена для резкого увеличения скорости обработки пластин, чистоты производства и снижения брака».
