Вчера, 22 марта, информационное издание «ТАСС» со ссылкой на Telegram-канал мэра Москвы Сергея Собянина сообщило, что российская компания-резидент ОЭЗ «Технополис Москва» выпустила первый в России фотолитограф — с разрешением 350 нм.
«В мире меньше десяти стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства», — цитата из официального сообщения.
Также мэр Москвы заявил, что данный фотолитограф разрабатывали вместе с белорусским заводом, у которого имеется внушительный опыт работы в данном направлении, и российская передовая разработка довольно заметно отличается от иностранных аналогов. Суть в том, что впервые в качестве излучения в этом аппарате применяется мощный и энергоэффективный твердотельный лазер, а не ртутная лампа, как у зарубежных решений. И, что довольно важно, на российский фотолитограф уже нашёлся первый заказчик — сейчас специалисты адаптируют технологические процессы под нужды клиента.
Более того, по словам господина Собянина, российские специалисты уже сейчас трудятся над созданием фотолитографа с разрешением 130 нанометров — процесс разработки планируют завершить в 2026 году.
Источник