В России разрабатывают установку для производства 7-нм чипов

Первую отечественную установку литографии для производства микрочипов по современной технологии разрабатывают в Институте прикладной физики Российской академии наук. Сообщается, что уже готов демонстрационный образец, на котором удалось получить отдельные изображения на подложках с разрешением до 7 нм. Тем не менее специалисты говорят, что процесс создания полноценного промышленного оборудования займёт 6 лет.

На сегодняшний день в России массово производят только чипы более 65 нм (в основном 90 нм и более). Такие компоненты используются в автомобильной, космической и промышленной сферах. Однако есть ещё процессоры для мелкой электроники, для которых нужны техпроцессы 7-28 нм. Это компьютеры, ноутбуки, смартфоны и так далее.

Процесс создания отечественного литографического оборудования поделили на три этапа. Задача на первом этапе (до 2024 года) — разработать рабочую установку с полным циклом операций и сделать её привлекательной для инвесторов. На втором этапе (2024-2026 годы) планируется улучшить систему: увеличить разрешение, повысить производительность и роботизировать некоторые операции. Установку уже можно будет применять на масштабных производствах. На третьем этапе (2026-2028 годы) появится более мощный источник излучения, улучшенные системы позиционирования и подачи, установка станет работать быстро и точно. И только после этого в России, возможно, смогут выпускать продукцию 7 нм.

В России стоит задача не конкурировать с технологическими лидерами в литографии, а изначально обеспечить свои запросы. Кроме того, российские специалисты хотят разработать оригинальную технологию. Они уже создали демонстратор технологии на другом источнике излучения — рентгеновском, который гораздо компактнее и чище в работе. В институте уже заявили, что их установка будет в 1,5-2 раза эффективнее оборудования ASML.