Российский литограф окажется намного дешевле иностранных — старт продаж в 2028 году
Как утверждают разработчики из Зеленоградского нанотехнологического центра (ЗНТЦ), разрабатываемая ими новая литографическая установка, окажется на 40–60% дешевле существующих иностранных аналогов.
Создатели отечественного продукта обещают ценник на уровне 6 миллионов долларов. Для сравнения, аналогичная установка, созданная одним из крупнейших производителей в лице компании ASML, обходится заказчикам в 15 миллионов долларов. Она обрабатывает 180 пластин ежечасно. Наши инженеры и учёные обещают, что отечественная установка сможет обрабатывать каждый час 100–140 пластин. Установка от Nikon оценена в 12 миллионов долларов, а её производительность достигает 120 пластин в час.
«Российская разработка может успешно конкурировать с западными аналогиями, в том числе за счет снижения цены», — рассказал изданию CNews представитель ЗНТЦ.
Создатели установки пояснили, что российская разработка будет работать в диапазоне 130 нм с пластинами 150 и 200 мм и длинной волны 248 нм. Поддерживает подложки Si,SOI, SiN/SiO2. ЗНТЦ планирует к 2027 г. перейти на технологию 90 нм, а к 2030 г. — освоить 65 нм.
Как пояснил ведущий разработчик литографического оборудования ЗНТЦ Виктор Абросимов, установка оптимизирована для фотонных интегральных схем, что экономически выгодно, так как набор масок для 130-нанометрового технологического процесса обходится в 750 тысяч долларов, а для 90-нанометрового — в 1 миллион. При активном использовании оборудования экономия производителя составит порядка 3–5 миллионов за один реализованный проект.
Отдельно надо сказать о годности выпускаемой продукции. У установки, заточенной под 130-нм техпроцесс, объём годных продуктов колеблется в диапазоне 75–85%, в то время как у оборудования для 65-95-нм техпроцессов — 60–70%. Это связано с большей толерантностью к дефектам и вариациям процесса.
Работы по разработке российского литографа обещают закончить в 2026 году. Первые же поставки начнутся спустя два года после завершения этапа разработки, а уже в 2030 году ЗНТЦ намерен поставить несколько установок отечественным микроэлектронным предприятиям.
На главном изображении — литограф, разработанный специалистами ЗНТЦ, для 350-нанометрового техпроцесса.
