Компания «Лассард» разработала эксимерный лазер для литографического оборудования, который позволит освоить 130-нм технологию производства. Он нужен для создания сверхточных микросхем, в том числе и процессоров. Первые опытные образцы отечественного лазера уже созданы, тестовые испытания запланированы на следующий год, а после 2026 года начнётся серийное производство лазеров для литографов — не менее пяти лазеров в год. Об этом заявил заместитель министра промышленности и торговли России Василий Шпак.
Изначально лазеры планируют использовать в литографах, первоначально рассчитанных на 350 нм, чтобы затем довести технологию до 130 нм. По словам Шпака, такая разработка в будущем позволит освоить 90-нм и даже 65-нм техпроцессы. Потенциальные заказчики на отечественные литографы с новым лазером уже есть, среди них есть крупнейший российский производитель полупроводников «Микрон».
На сегодняшний день производством лазеров для литографов занимаются только две компании в мире — GigaPhoton (Япония) и Cymer (США). Россия вообще ничего подобного не производила, а теперь может стать третьей страной, где налажено такое производство.
